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请教ICP和RIE有什么区别
1、经营业务不同ICP许可证主要面向的业务包括信息发布平台和递送服务、版信息搜索查询服务、信息社区平台服务、信息即时交互服务、信息保护和处理服务等以此来获取盈利。
2、您好，EDI和ICP的区别是两个是完全不同的资质，ICP许可证是经营性网站就要必备的资质，然而EDI许可证是电商、交易类的网站平台需要办理的资质。ICP和EDI的概念 ICP许可证：B25信息服务业务(仅限互联网信息服务)。
3、首先解释下什么叫ICP许可证网络内容服务商英文为 Internet Content Provider 简写为ICP，即向广大用户综合提供互联网信息业务和增值业务的电信运营商。其必须具备的证书即为ICP证。
4、从定义区分：经营性ICP许可证：互联网信息服务，是指通过互联网，向上网用户有偿提供信息或者网页制作等服务活动。
5、EDI和ICP区别在于，EDI许可证是商城类型的网站需要办理的，ICP许可证是信息发布类的网站需要办理的，比如分类信息网，招聘网站。
国产十五家主要半导体设备厂商介绍
海思 海思是全球领先的Fabless半导体与器件设计公司，1991年启动集成电路设计及研发业务，为汇聚行业人才、发挥产业集成优势，提供海思芯片对外销售及服务。
清华紫光展锐：清华紫光展锐是我国一家由清华大学创办的半导体公司，是中国十大芯片企业之一，该公司是我国综合性最强的一个集成电路企业，也是全世界第三大手机芯片制造商，在对于芯片和半导体材料的制作上，可谓是出类拔萃。
康强电子：主要从事半导体封装用引线框架和键合金丝的生产，属于科技创新 型企业，国内最大的塑封引线框架生产基地，年产量达160亿只，已成为我国专业生产半导体集成电路引线框架、键合金丝的龙头企业。
海思半导体是一家半导体公司，海思半导体有限公司成立于2004年10月，前身是创建于1991年的华为集成电路设计中心。海思公司总部位于深圳，在北京、上海、美国硅谷和瑞典设有设计分部。
感应耦合等离子体刻蚀机启辉后一直闪
辉光时的射频干扰。等离子体(plasma)又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，辉光一直跳动是由于辉光时的射频干扰，需要重新调整地线的位置或线圈的接入点。
日光灯丝与启辉器是串联的，一般是日光灯管使用时间长老化引起的，换灯管可解决。
检查启辉器线路，镇流器。其实可以用不漏电的尖嘴钳短接一下启辉器的两个电极。正常发光就证明线路没有问题。
等离子刻蚀机的介绍
等离子刻蚀机的组成一般包括等离子发生器（工业上常用RF激发法），真空室，和电极。 其工作原理是用等离子体中的自由基（radical）去轰击（bombard）或溅射（sputter）被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻蚀的目的。
它在低气压的真空室中被抽走，从而实现刻蚀。
CF4等离子刻蚀： 用于刻蚀有机薄膜、聚合物、光刻胶等材料，常见于半导体器件和微纳加工中。工艺气体选择：氧等离子刻蚀： 通常使用氧气（O2）作为工艺气体，因为氧等离子主要来源于氧气。
到此，以上就是小编对于rie刻蚀原理的问题就介绍到这了，希望介绍的几点解答对大家有用，有任何问题和不懂的，欢迎各位老师在评论区讨论，给我留言。
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